在300毫米光刻机中，光刻胶烘烤过程中哪怕只有半度的偏差，都可能让原本合格的产品变成废品。仅通过缩小扫描器的精度范围是无法解决这个问题的。烘烤过程本身必须具备足够的精确度。
我们设计了一种带有内置空气刀的红外灯，以此来解决两个主要问题：热漂移和污染。这些问题会在你察觉到之前就破坏产品的重复性。
关键在于内部结构 该设备将短波红外发射器与位于其旁边的空气刀结合在一起。这种设计能够快速且精准地加热光刻胶，同时还能有效控制光谱特性。这样一来，热滞后和温度超调问题就能得到控制。
晶圆表面的温度均匀性可保持在±0.1°C范围内，我们是通过实时监测来确认这一数值的，而不是依靠单个传感器的数据来推断。空气刀则负责产生层流，从而清除表面上的颗粒物和湿气，然后再将这些物质排出腔体外。如此一来，颗粒物数量就能保持在洁净室1-100级标准之内。
这样的设计有助于确保软烘烤和硬烘烤过程的稳定性，同时也能实现更精确的尺寸控制，从而减少返工次数。
为什么这种设计在光刻工艺中有效 光刻胶的处理过程对温度和空气中的杂质极为敏感。这款设备可以快速达到所需温度，因此怠速时间减少，且每次烘烤过程中的温度都保持稳定。
所有的材料都符合洁净室标准，而且空气流路也是密封的，这样就不会有气体泄漏或颗粒物飘散的问题。由于能量直接作用于光刻胶上，而非腔体壁面，所以其能耗也低于传统对流式烤箱。
该设备的可靠性体现在其长时间运行的能力上——它可以在5,000小时以上的时间里保持不到5%的产量下降，从而实现24/7不间断运行。
不可忽视的实用细节 在安装时，需要配备专用的排气系统，同时还要确保空气供应的质量。如果过滤效果不佳，就会再次引入颗粒物。
为了使灯光能更好地照射到晶圆上，需确保光线路径通畅，因此要注意处理腔体周围的几何结构。
还需要将空气刀的压力设置在合适的范围内。压力过大可能会影响光刻胶的性能，而压力过小则无法有效去除颗粒物。此外，还需让发光器的光谱与光刻胶的吸收特性相匹配，这样才能实现最佳的温度均匀性。