장비의 내벽을 가열하는 것을 중단하세요. 반도체 제조 장비의 내부를 가열하는 것은 꽤 복잡한 문제입니다. 웨이퍼나 기판에 충분한 열을 공급해야 하지만, 그 열이 장비의 내벽으로 전달되는 것은 피해야 합니다. 열이 사방으로 퍼져나가면, 장비의 벽면이 그 열을 흡수하게...

공정 현장에서 상황은 익숙할 것이다—포토레지스트 베이크 시 0.5도 정도의 편차만 있어도 선폭이 변동하고 CD 예산을 침식하며 다수의 웨이퍼가 폐기물로 전락한다. 팹 내 대용량 적외선 벌브는 단순한 히터가 아니다. 코팅/베이크 트랙과 경화 모듈에서 열 계측의 기준점...