Pada proses pembakaran fotoresist dengan panjang gelombang 300 mm, penyimpangan sebesar setengah derajat saja sudah cukup untuk mengubah produk yang berkualitas menjadi barang yang tidak bisa digunakan lagi. Memperketat toleransi penggunaan alat pemindai saja tidak akan menyelesaikan masalah ini. Langkah pembakaran tersebut perlu dikendalikan secara ketat.
Kami membuat lampu inframerah yang dilengkapi dengan alat semacam “pisau udara” untuk mengatasi dua masalah utama, yaitu penyimpangan suhu dan kontaminasi. Kedua hal ini akan merusak keandalan proses produksi, bahkan sebelum gejalanya terlihat pada hasil pengukuran.
Apa yang penting di baliknya? Unit ini menggabungkan sumber cahaya inframerah berpanjang gelombang pendek dengan alat “pisau udara” yang berada tepat di sampingnya. Lampu tersebut dapat memanaskan permukaan wafer dengan cepat dan efektif, serta memiliki kontrol spektrum yang baik. Dengan demikian, penyimpangan suhu dapat dikendalikan.
Keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer dipertahankan pada kisaran ±0,1°C. Kami memverifikasinya melalui pemetaan langsung, bukan hanya dengan menggunakan satu sensor saja. Alat “pisau udara” membantu menghilangkan partikel dan kelembapan dari permukaan wafer, lalu mengeluarkannya dari chamber. Jumlah partikel tetap berada dalam kategori Cleanroom Class 1–100.
Hasilnya adalah kondisi termal yang stabil, kontrol dimensi yang akurat, serta pengurangan jumlah pekerjaan yang perlu dikerjakan ulang.
Mengapa hal ini efektif dalam proses litografi? Proses pengolahan fotoresist sangat sensitif terhadap perubahan suhu dan adanya kotoran di udara. Unit ini dapat mencapai suhu yang diinginkan dengan cepat, sehingga waktu tunggu berkurang, dan profil pembakaran tetap stabil dari satu kali proses ke proses berikutnya.
Semua bahan yang digunakan sesuai standar Cleanroom, dan jalur udara juga tertutup, sehingga tidak ada emisi gas atau partikel yang keluar. Penggunaan energi lebih rendah dibandingkan oven konvensional, karena energi digunakan langsung untuk memanaskan permukaan wafer, bukan untuk memanaskan dinding chamber.
Keandalan unit ini ditentukan oleh waktu operasinya yang panjang. Unit ini dapat beroperasi hingga 5.000 jam tanpa penurunan kinerja lebih dari 5%, sehingga dapat beroperasi 24/7 tanpa henti.
Detail praktis yang tidak boleh diabaikan Instalasi unit ini membutuhkan sistem ventilasi khusus, dan kualitas pasokan udara perlu dicek dengan teliti. Jika sistem filtrasi tidak memadai, partikel akan tetap ada di udara.
Lampu ini akan berfungsi secara optimal jika ada jalur pandang yang jelas ke permukaan wafer. Perhatikanlah geometri area di sekitar chamber proses.
Aturlah tekanan udara yang digunakan oleh alat “pisau udara” agar berada dalam rentang yang tepat. Jika tekanannya terlalu tinggi, akan merusak fotoresist; jika terlalu rendah, partikel tidak akan terhilangkan. Selain itu, pastikan spektrum cahaya yang dihasilkan sesuai dengan profil penyerapan fotoresist. Dengan cara ini, keseragaman suhu dapat dicapai secara maksimal.