Üretim alanında, litografi işlemleri için gerekli olan termal denge, öncelikle “yumuşak pişirme” ve “sert pişirme” adımlarıyla sağlanır. Wafer üzerindeki 1,5°C’lik bir sıcaklık değişimi veya soğuk noktalar, kritik boyutların hızla değişmesine neden olur. İşte bu yüzden tüm ürünler boşa gitmekte ve üretim süreci durma noktasına gelmektedir.
Bu termal profilin stabil kalmasını sağlamak için, fotoresistleri kurutmak amacıyla kırmızıötesi lambalar kullanıyoruz. Asıl önemli olan şey, wafer seviyesindeki kontrolü sağlamaktır. NIR kısa dalga boylu ışık kaynağı, enerjiyi hızlı bir şekilde fotoresiste aktarır ve waferin yüzeyindeki sıcaklık farklarını ±0,1°C civarında tutar. Lambanın gövdesi kuvars malzemeden yapılmış olup, yüksek saflıkta yansıtıcı parçalar içerir; bu sayede parça yaymadan Class 1–100 ortamında sorunsuz çalışır.
Çıktının tekrarlanabilirliği 24 saat boyunca %0,5 civarında kalır ve kapalı döngü kontrolü sayesinde termal profil belirlenen değerde sabit kalır; aşırı sıcaklık artışları meydana gelmez.
Bunun pratikte nasıl işe yaradığı şudur: Bu sistem, uluslararası yarı iletken ekipmanları için geçerli olan termal standartlara uygundur ve doğrulanmış bir alternatif olarak kullanılır. Böylece daha iyi CD kontrolü, daha az yeniden işleme gereksinimi ve daha az atık elde edilir.
Enerji tüketimi azalır, çünkü lamba tüm odayı değil, sadece fotoresisti ısıtır. 5.000 saatten fazla süreyle bu cihazları kullandık ve çıktıdaki düşüşün %5’in altında olduğunu gördük. Bu da fotoresist işlemlerinin her seferinde tutarlı kalmasını sağlar.
Birkaç pratik not: Lamba, standart SEMI arayüzleri ve yaygın litografi işlem hatlarıyla uyumludur; ancak entegrasyon konusunda dikkat gerekmektedir. Aşama bazında termal kütle ve egzoz yolu önemlidir.
Fotoresist yapınıza uygun bir profil elde etmek için kısa bir test süreci planlayın. Bir kez ayarlandığında, işlem kontrol altında kalır ve üretim süreci devam eder.