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Riscaldatore per sistema di essiccazione a wafer industriale

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Nella sala di produzione, il conto alla rovescia inizia nel momento in cui il wafer esce dalla vasca di pulizia. L’umidità residua rappresenta un...
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Riscaldamento uniforme per wafer IR da 300 mm

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Su una linea da 300mm, la cottura del fotoresist è il momento in cui si definisce il budget termico. Un bordo troppo caldo o troppo freddo, una...
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Riscaldatore a infrarossi a onda media per wafer

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Sulla linea di litografia, si accende la luce del forno, si solleva la campana e si aspetta che il wafer raggiunga il setpoint. Non “vicino”. Il...
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