Nắp chụp gốm cho bộ phát hồng ngoại

Tue, 09 Jun 2026 01:25:58 +0800

Trên sàn sản xuất, các hồ sơ nướng bị trôi nhiệt — và năng suất bị ảnh hưởng. Các phát xạ truyền thống không giữ được nhiệt độ đồng đều trên toàn bộ wafer. Kết quả là các mép bị nấu chưa đủ trong khi trung tâm lại quá nóng. Sự không đồng đều này làm tiêu hao thời gian, năng lượng và số lượng die đạt chuẩn.

Những yếu tố quan trọng về mặt kỹ thuật

Chúng tôi sử dụng đầu phát IR với nắp cuối bằng gốm, cho phân bố nhiệt đồng đều dưới mức milimét. Kết quả đạt được là đồng nhất nhiệt ở cấp wafer trong phạm vi ±0.1°C. Thân gốm giữ cho hệ số phát xạ ổn định và tăng nhiệt nhanh chóng, trong khi hình học được thiết kế định hình trường nhiệt phù hợp với cửa sổ quy trình.
Từ soft bake đến hard bake, hồ sơ nhiệt được tái lập đồng đều — lô này sang lô khác, máy này sang máy khác. Hệ thống hoạt động trong phòng sạch Class 1–100 mà không làm tăng đột biến số lượng hạt bụi, và vật liệu gốm không phát khí gây ô nhiễm photoresist.

Kết Thúc on Cutting-Edge IR Heating Technology

Nắp chụp gốm cho bộ phát hồng ngoại

Những yếu tố quan trọng về mặt kỹ thuật