Đèn hồng ngoại dùng để khô hóa chất photoresist

Mon, 22 Jun 2026 19:38:13 +0800

Trong quy trình sản xuất, việc kiểm soát nhiệt độ trong quá trình in ấn bắt đầu từ các bước sấy ấm và sấy nóng. Sự chênh lệch nhiệt độ 1,5°C, hoặc sự xuất hiện của những vùng có nhiệt độ thấp trên tấm wafer, có thể làm thay đổi nhanh chóng các kích thước quan trọng của tấm wafer. Điều này khiến toàn bộ lô sản phẩm bị hỏng, và quy trình sản xuất bị gián đoạn.

Chất Cảm Quang on Cutting-Edge IR Heating Technology

Đèn hồng ngoại dùng để khô hóa chất photoresist