Tampa final de cerâmica para emissor IR

Tue, 09 Jun 2026 01:25:58 +0800

No chão da fábrica, perfis de cozimento variam—e o rendimento sofre. Emissores convencionais simplesmente não conseguem manter a temperatura em toda a superfície do wafer. Você acaba com bordas mal curadas enquanto o centro fica quente. Essa variabilidade consome tempo, energia e bons chips.

O que importa, tecnicamente

Utilizamos um emissor IR com capô cerâmico que proporciona uma distribuição de calor uniforme em submilímetros. O resultado é uma uniformidade térmica a nível de wafer dentro de ±0,1°C. O corpo cerâmico mantém a emissividade estável e atinge rapidamente a temperatura, e a geometria projetada molda o campo térmico para se adequar à janela de processo.
De cozimento suave a cozimento duro, o perfil se repete—de lote para lote, de ferramenta para ferramenta. O sistema opera em salas limpas de Classe 1–100 sem aumento na contagem de partículas, e a construção cerâmica não libera gases que contaminam o fotoresiste.

Cerâmica on Cutting-Edge IR Heating Technology

Tampa final de cerâmica para emissor IR

No chão da fábrica, perfis de cozimento variam—e o rendimento sofre. Emissores convencionais simplesmente não conseguem manter a temperatura em toda a superfície do wafer. Você acaba com bordas mal curadas enquanto o centro fica quente. Essa variabilidade consome tempo, energia e bons chips.

O que importa, tecnicamente