IR on Cutting-Edge IR Heating Technology

Precisie IR sensor voor wafer

Wed, 22 Jul 2026 02:41:19 +0800

Voorkom dat uw IR-lampen uw wafers beschadigen
Als u ooit te maken hebt gehad met een lamp die plotseling kapotging tijdens een proces met hoge belastingsniveaus, weet u hoe vervelend dat is. Het gaat niet alleen om de stilstand die hierdoor ontstaat, maar ook om de chaos die dit met zich meebrengt. Stukjes kwarts en halogengas die op het silicium terechtkomen, vormen een nachtmerrie. Eén explosie kan al zorgen voor secundaire besmettingen, waardoor hele batches verloren gaan. Het is een kostbare fout die echter gemakkelijk voorkomen kan worden. We hebben onze precisielampen zo ontworpen dat dit niet gebeurt.

Aluminiumreflector voor IR lamp

Thu, 09 Jul 2026 14:23:34 +0800

Aluminiumreflecterende IR-lampen: gecontroleerde hitte, geen verspilling
We hebben deze aluminiumreflecterende IR-lampen ontwikkeld om één reden: om de hitte precies daar te brengen waar ze nodig is, en nergens anders. In de halfgeleider- en precisiefabricage is ongewenste hitte niet alleen verspillend – het kan ook leiden tot oververhitting van behuizingen, schade aan dure onderdelen en serieuze veiligheidsproblemen.

Stroomsterkte, spanning en vorm – aangepast aan de behoeften
Gecontroleerde opwarming begint met het afstemmen van de elektrische en fysieke eigenschappen op de ruimte die moet worden opgewarmd.
Deze lampen zijn compacte buisjes van ongeveer 300 mm lang, zodat je de hitte kunt concentreren in een kleine zone, zonder de hele ruimte op te warmen. Ze zijn ontworpen voor hoge spanningen, meestal 400 V. Dit zorgt ervoor dat ze stabiel blijven in industriële omgevingen, waar de spanning vaak constant is.
De vermogenswaarde is zo gekozen dat er een hoge hittedichtheid wordt gegenereerd. Hierdoor wordt de ruimte snel opgewarmd en kan de temperatuur nauwkeurig worden gereguleerd tijdens kritieke stappen in het productieproces. Het gaat hier om geconcentreerde hitte – intensieve hitte, precies waar het nodig is.

Grote voorraad van high end IR lampen

Mon, 06 Jul 2026 04:25:12 +0800

Hoge-output infraroodlampen voor de productie van halfgeleiders
Hebt u een directe vervanging nodig voor uw apparatuur? Wij helpen u graag. Onze voorraad bevat infraroodlampen die perfect kunnen worden gebruikt als vervanging, met dezelfde warmte-output en betrouwbaarheid als de originele lampen.

Het gaat hier niet om gewone verhitters. Deze lampen zijn ontworpen om aan de strenge eisen van de halfgeleiderproductie te voldoen – waar nauwkeurige temperatuurregeling en snelle reactietijden essentieel zijn.

Specificaties die echt belangrijk zijn: vermogen, spanning, afmetingen
Laten we het hebben over de details die echt een verschil maken. Onze lampen met een spanning van 400V en een vermogen van 2500W leveren veel energie op een kleine oppervlakte. Ze kunnen rechtstreeks worden aangesloten op de standaardvoorzieningen van high-end apparatuur, zodat u geen extra kabels hoeft aan te sluiten.

Keramische eindkap voor IR zender

Tue, 09 Jun 2026 01:25:58 +0800

Op de fabrieksvloer driften bake-profielen en daalt de opbrengst. Conventionele emitters kunnen de temperatuur over de wafer niet constant houden. Hierdoor ontstaan ondergaarde randen terwijl het midden te heet wordt. Die variatie kost tijd, energie en goede chips.

Wat technisch gezien belangrijk is

We gebruiken een keramische end cap IR-emitter die een submillimeter uniforme warmteverdeling biedt. Het resultaat is thermische uniformiteit op wafer-niveau binnen ±0,1°C. Het keramische lichaam houdt de emissiviteit stabiel en reageert snel op temperatuurveranderingen, terwijl de ontworpen geometrie het thermisch veld zo vormgeeft dat het binnen het procesvenster blijft.
Van soft bake tot hard bake is het profiel herhaalbaar—van lot tot lot, van machine tot machine. Het systeem functioneert in Class 1–100 cleanrooms zonder een piek in de deeltjesconcentratie te veroorzaken, en de keramische constructie geeft geen gas af die de photoresist kan verontreinigen.

Uniforme warmte voor 300mm wafer IR

Mon, 01 Jun 2026 18:11:53 +0800

Op een 300mm-lijn is het bakken van de fotoresist het moment waarop het thermische budget wordt vastgelegd. Een warme of koude rand, een afwijking tijdens de hard bake, en de CD-uniformiteit valt uiteen—afkeur stapelt zich op terwijl de planner dezelfde batch blijft doorzetten. We hebben de 300mm wafer IR-verwarmingsmodule ontwikkeld om die variabiliteit uit te sluiten.

Wat er werkelijk toe doet
Het verkrijgen van uniforme warmte over een 300mm wafer begint met een kortegolf-infrarood emitterarray en een kwartsgebaseerd thermisch ontwerp dat de uniformiteit op wafer-niveau binnen ±0,1°C over het gehele oppervlak handhaaft. Temperatuuropslagen zijn herhaalbaar, zodat soft bake- en hard bake-profielen exact het recept volgen, batch na batch. De module werkt in Class 1–100 cleanrooms zonder deeltjes toe te voegen—afgesloten emitters, inert kwarts-traject en cleanroomcompatibele bevestigingen houden de deeltjesgeneratie op nul.