Infraroodlamp voor het harden van fotorezist

Mon, 22 Jun 2026 19:38:13 +0800

Op de productielijn begint het thermische proces voor lithografie met een zogenaamde ‘soft bake’ en een ‘hard bake’. Een verschil van 1,5°C of een koud gebied op het gewicht zorgt er snel voor dat de cruciale dimensies veranderen. Hierdoor moeten hele batches worden weggeworpen en kan de productielijn stil komen te liggen.

We hebben infraroodlampen ontworpen die worden gebruikt om het thermische profiel stabiel te houden, shift na shift. Wat echt belangrijk is, is de controle op het niveau van het gewicht zelf. Onze NIR-lampen leiden energie rechtstreeks naar het fotoresistmateriaal, waardoor de uniformiteit op het gewicht binnen ±0,1°C blijft. Het lichaam van de lamp bestaat uit kwarts, met hoogzuivere reflectoren, zodat de lamp zonder problemen kan werken in een omgeving van klasse 1–100, zonder dat er deeltjes vrijkomen.

Fotoresistent on Cutting-Edge IR Heating Technology

Infraroodlamp voor het harden van fotorezist