Wafer on Cutting-Edge IR Heating Technology

Reflektor untuk lampu pengeringan wafer

Sat, 25 Jul 2026 02:51:14 +0800

Hentikan kegagalan lampu daripada merosakkan wafer anda
Apabila lampu gagal berfungsi semasa proses pengeringan wafer, ia bukan sekadar masalah gangguan operasi sahaja. Ia merupakan situasi yang sangat buruk. Bayangkanlah tiub kuarza pecah akibat beban yang berat. Tiba-tiba, serpihan kaca dan gas halogen akan jatuh terus ke atas wafer silikon tersebut. Ini merupakan keadaan yang sangat kacau. Itulah sebabnya kita reka reflektor agar ia bukan sekadar bahan logam yang berkilauan – ia merupakan lapisan perlindungan pertama untuk melindungi wafer.

Penderia IR berketepatan tinggi untuk wafer

Wed, 22 Jul 2026 02:41:19 +0800

Hentikan lampu IR daripada merosakkan wafer anda

Jika anda pernah menghadapi situasi di mana lampu meletup semasa proses pengeluaran yang intensif, anda pasti tahu betapa buruknya keadaan tersebut. Bukan hanya masa henti yang menyusahkan, tetapi juga keadaan kacau yang terjadi akibatnya. Serpihan kuarsa dan gas halogen yang jatuh ke atas wafer silikon merupakan masalah besar. Satu letupan sahaja sudah cukup untuk merosakkan keseluruhan kumpulan wafer tersebut. Ini merupakan kesilapan yang mahal, namun sebenarnya mudah untuk dielakkan. Kami telah mencipta lampu IR yang berkualiti tinggi untuk mengelakkan perkara ini daripada berlaku.

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Tue, 21 Jul 2026 02:13:03 +0800

Proses pengeringan wafer sensor MEMS setelah proses pembersihan menggunakan bahan kimia merupakan proses yang sangat berisiko. Mengapa? Kerana ia sama seperti bermain dengan api. Apabila terdapat wap kimia yang mudah terbakar atau meletup di udara, lampu inframerah biasa bukan sahaja tidak berguna, malah boleh menjadi sumber bahaya. Sebarang percikan api atau titik panas pada permukaan komponen tersebut boleh menyebabkan kebakaran. Ini merupakan situasi yang menakutkan yang membuat para pengurus kilang gelisah sepanjang masa.

Mengelakkan percikan api
Kami memutuskan untuk tidak lagi menggunakan lampu yang diletakkan di luar. Sebaliknya, kami meletakkan tiub kuarza tersebut di dalam sarung yang tahan bahan kimia. Ia berfungsi sebagai pelindung yang mengasingkan sentuhan elektrik daripada udara di sekelilingnya. Dengan cara ini, bahan organik volatil (VOCs) tidak dapat mendekati pin-pin yang aktif. Biasanya, penutup tersebut akan rosak akibat tekanan atau suhu yang tinggi. Untuk mengatasi masalah ini, kami menggunakan gasket fluor elastomer yang tahan suhu tinggi. Gasket ini mampu bertahan walaupun berada dalam keadaan suhu yang ekstrem. Kami juga memastikan gasket tersebut sesuai untuk tekanan tertentu, kerana jika penutup tersebut rosak, wap kimia akan masuk ke dalam. Dan itu tentunya tidak boleh diterima.

Jarak keselamatan untuk pemanasan wafer

Sat, 18 Jul 2026 02:10:05 +0800

Mengapa kita menggunakan teknologi pengeringan inframerah untuk pemprosesan wafer

Mari kita bincangkan tentang proses pengeringan dan penyembuhan bahan-bahan yang digunakan dalam industri semikonduktor. Dalam dunia semikonduktor, kita sudah meninggalkan cara-cara lama yang melibatkan penggunaan bahan kimia berbahaya dan kaedah pemanasan yang tidak efisien. Sebaliknya, kita menggunakan teknologi inframerah.

Teknologi ini lebih bersih. Dengan menggunakan tenaga radiasi secara langsung, kita dapat mengelakkan penggunaan bahan kimia berbahaya serta kaedah pemanasan yang membebaskan banyak haba. Ia merupakan cara yang lebih mudah dan mesra alam untuk menyelesaikan tugas tersebut tanpa menyebabkan masalah alam sekitar.

Pemanas wafer yang cekap dari segi penggunaan tenaga

Fri, 17 Jul 2026 02:28:31 +0800

Mengapa kita meninggalkan oven lama dan beralih ke kaedah pengeringan menggunakan sinar inframerah

Selama ini, proses pembuatan semikonduktor bergantung pada oven konveksi yang bersaiz besar. Namun sebenarnya, oven tersebut sudah ketinggalan zaman. Kita kini beralih kepada kaedah pengeringan menggunakan sinar inframerah. Ini kerana kaedah ini dapat mencapai sasaran yang diinginkan, iaitu penggunaan bahan-bahan yang tidak beracun dan bebas plumbum.

Berbeza dengan oven konveksi yang menggunakan udara panas untuk memanaskan wafer, sinar inframerah pula menggunakan radiasi elektromagnetik. Radiasi ini sampai terus ke permukaan wafer tanpa perlu melalui medium lain.

Pemanas sistem pengeringan wafer perindustrian

Fri, 26 Jun 2026 01:57:09 +0800

Di bilik pengeringan wafer, jam akan mula berfungsi sebaik sahaja wafer keluar dari bekas pembersihan. Kelembapan yang tinggal merupakan masalah besar – kesan kelembapan akan muncul dengan cepat, dan satu titik air saja sudah cukup untuk merosakkan seluruh proses pengeluaran. Anda tidak boleh menggunakan pemanas yang hanya dapat mengekalkan suhu pada tahap tertentu sahaja. Anda memerlukan pemanas yang mampu mengekalkan suhu yang sama di seluruh permukaan wafer, setiap kali.

Apa yang penting dari segi teknikal
Kami membina pemanas pengeringan wafer industri menggunakan elemen inframerah jarak dekat (NIR) serta lampu kuarsa-halogen, bersama-sama dengan badan pemanas yang diperbuat daripada serat karbon. Sebabnya mudah: tindak balas yang cepat dan output yang stabil. Kestabilan suhu di seluruh permukaan wafer mencapai ±0.1°C, sehingga proses pembakaran lembut dan keras dapat dilakukan dengan tepat mengikut spesifikasi yang ditetapkan.

Panas seragam untuk wafer 300mm IR

Mon, 01 Jun 2026 18:11:53 +0800

Pada barisan 300mm, proses pemanggangan photoresist adalah di mana anda mengunci bajet terma. Kecerunan panas atau sejuk di tepi, pergeseran semasa hard bake, dan keseragaman CD anda akan hancur—sampah bertimbun sementara penjadual terus menolak lot yang sama. Kami membina modul pemanasan IR wafer 300mm untuk mengeluarkan variabiliti itu dari persamaan.

Apa yang benar-benar penting
Mendapatkan haba seragam merentasi wafer 300mm bermula dengan susunan pemancar inframerah gelombang pendek dan reka bentuk terma berasaskan kuarza yang mengekalkan keseragaman pada tahap wafer dalam ±0.1°C merentasi keseluruhan permukaan. Lonjakan suhu boleh diulang, jadi profil soft bake dan hard bake mengikut resipi dengan tepat, satu batch demi satu batch. Modul ini beroperasi di bilik bersih Kelas 1–100 tanpa menambah zarah—pemancar yang tersegel, laluan kuarza inert, dan pemasangan yang serasi dengan bilik bersih memastikan penghasilan zarah adalah sifar.

Pemanas inframerah gelombang sederhana untuk wafer

Sun, 31 May 2026 02:52:50 +0800

Di lantai litografi, lampu oven menyala, loceng berdentang, dan anda menunggu wafer mencapai setpoint. Bukan “hampir.” Setpoint. Setiap larian.
Pematangan lembut yang berubah-ubah menyebabkan kelikatan resist dan tingkah laku gelombang berdiri berubah. Pematangan keras yang tidak sekata meninggalkan sisa di tepi, mengubah kedalaman notch pantulan, dan menjadikan kawalan CD satu cabaran harian. Apabila keseragaman terma tidak tepat, anda mula hilang kepercayaan terhadap alat. Anda mula mengejar anomali berbanding menjalankan tingkap proses.
Pemanas inframerah gelombang sederhana dibina untuk kekangan tersebut: penghantaran suhu yang berulang dengan kawalan ruang haba sub-milimeter.