Pembuatan on Cutting-Edge IR Heating Technology

Penyelesaian untuk pengeluaran fabrik yang mampan

Tue, 28 Jul 2026 03:12:23 +0800

Hentikan pembaziran tenaga di fasiliti pengeluaran semikonduktor anda

Sejujurnya, pembaziran tenaga di fasiliti pengeluaran semikonduktor bukan sekadar masalah kos sahaja. Ia merupakan kecacatan reka bentuk.

Ketika kita memanaskan wafer, kita tidak hanya ingin agar ia menjadi panas. Kita perlu memastikan bahawa foton-foton tersebut benar-benar mengenai permukaan silikon. Namun, sebahagian besar tenaga tersebut hilang begitu saja ke dalam badan mesin, sehingga ruangan sekeliling menjadi panas, bukannya produk yang diproses. Inilah sebabnya mengapa penggunaan reflektor berlapis emas sangat penting. Reflektor ini berfungsi seperti cermin yang memantulkan haba kembali ke tempat yang sepatutnya.

Pemanas untuk pembuatan nanotube karbon

Tue, 28 Jul 2026 03:00:07 +0800

Mengapa kita menggunakan inframerah untuk pembuatan nanotube karbon
Jika anda pernah cuba memproduksi nanotube karbon, anda pasti tahu betapa susahnya proses tersebut. Anda memerlukan suhu yang tepat, dan suhu tersebut perlu dicapai dengan segera.

Ketika kita membina fasilitas pengeluaran yang moden dan canggih, kita tidak lagi menggunakan pemanas konvensional, sebaliknya kita menggunakan sistem inframerah berintensiti tinggi. Inilah sebabnya.

Masalah dengan cara lama
Kebanyakan orang menggunakan pemanas jenis resistif. Namun, cara ini terlalu lambat untuk digunakan dalam proses pengeluaran yang memerlukan ketepatan masa yang tinggi. Ia sama seperti cuba memanaskan seluruh bilik hanya untuk memanaskan secawan kopi sahaja.

Pemanas untuk pembuatan sensor hidrogen

Fri, 03 Jul 2026 03:58:22 +0800

Di bilik pengeluaran yang bersih ini, pemanas sensor hidrogen tidak boleh mengalami sebarang penyimpangan suhu. Sebarang perubahan suhu sebanyak setengah darjah semasa proses pembakaran akan merosakkan kawalan dimensi yang tepat, dan akibatnya proses pengeluaran akan terhenti. Kami menciptakan pemanas ini agar dapat beroperasi dalam bilik bersih kelas 1–100, hari demi hari, tanpa gangguan yang tidak dijangka.

Apa yang penting di belakang tabir
Pemanas ini menggunakan elemen kuarsa inframerah gelombang pendek untuk memindahkan haba dengan cepat dan efisien. Ia memastikan suhu pada wafer kekal stabil pada tahap ±0.1°C. Nilai suhu yang ditetapkan tetap konsisten walaupun selepas ribuan kitaran pembakaran. Ini membolehkan proses pembakaran berjalan secara konsisten dari masa ke masa. Badan pemanas serta komponen penutupnya direka untuk mengelakkan penghasilan zarah, sekali gus memastikan jumlah zarah tetap terkawal semasa proses litografi. Pemanas ini juga beroperasi secara berterusan pada beban penuh, tanpa memerlukan penyelenggaraan.