IR on Cutting-Edge IR Heating Technology

Penderia IR berketepatan tinggi untuk wafer

Wed, 22 Jul 2026 02:41:19 +0800

Hentikan lampu IR daripada merosakkan wafer anda

Jika anda pernah menghadapi situasi di mana lampu meletup semasa proses pengeluaran yang intensif, anda pasti tahu betapa buruknya keadaan tersebut. Bukan hanya masa henti yang menyusahkan, tetapi juga keadaan kacau yang terjadi akibatnya. Serpihan kuarsa dan gas halogen yang jatuh ke atas wafer silikon merupakan masalah besar. Satu letupan sahaja sudah cukup untuk merosakkan keseluruhan kumpulan wafer tersebut. Ini merupakan kesilapan yang mahal, namun sebenarnya mudah untuk dielakkan. Kami telah mencipta lampu IR yang berkualiti tinggi untuk mengelakkan perkara ini daripada berlaku.

Pembalik cahaya aluminium untuk lampu IR

Thu, 09 Jul 2026 14:23:34 +0800

Lampu IR dengan reflektor aluminium: Panas yang terarah, tiada pembaziran tenaga
Kami mencipta lampu IR dengan reflektor aluminium ini untuk satu tujuan sahaja: untuk menghantar haba tepat ke tempat yang diperlukan, tanpa membuang tenaga di tempat lain. Dalam industri semikonduktor dan pengeluaran berkualiti tinggi, haba yang tidak terkawal bukan sahaja menyebabkan pembaziran tenaga, tetapi juga boleh menyebabkan komponen menjadi terlalu panas, serta menimbulkan masalah keselamatan.

Tenaga, voltan, dan bentuk – disesuaikan mengikut keperluan
Pemanasan yang terarah bermula dengan penyesuaian ciri-ciri elektrik dan fizikal agar sesuai dengan ruang yang ingin dipanaskan. Lampu ini berbentuk tiub yang pendek, kira-kira 300 mm panjangnya. Ini membolehkan haba difokuskan pada kawasan kecil sahaja, tanpa perlu memanaskan seluruh ruangan.

Stok lampu IR yang banyak.

Mon, 06 Jul 2026 04:25:12 +0800

Lampu Inframerah Berkuasa Tinggi untuk Proses Pembuatan Semikonduktor
Adakah anda memerlukan pengganti langsung untuk peralatan pembuatan semikonduktor anda? Kami mempunyai penyelesaian yang sesuai untuk anda. Stok kami penuh dengan lampu inframerah yang mampu menggantikan lampu asal dari segi kuasa dan kebolehpercayaan.

Lampu-lampu ini bukanlah lampu pemanas biasa. Ia direka khusus untuk memenuhi keperluan ketat dalam proses pembuatan semikonduktor – di mana kawalan suhu yang tepat dan tindak balas yang cepat adalah sangat penting.

Spesifikasi yang Penting: Kuasa, Voltan, Saiz
Mari kita lihat butiran yang membezakan lampu-lampu ini.
Lampu ini beroperasi pada voltan 400V dan kuasa 2500W. Ia direka agar dapat disambung terus ke sistem bekalan elektrik standard peralatan pembuatan semikonduktor, jadi tiada perlu untuk mengubah susunan kabel lagi.

Penutup akhir seramik untuk pemancar IR

Tue, 09 Jun 2026 01:25:58 +0800

On the fab floor, bake profiles drift—and yield takes the hit. Conventional emitters just can’t hold temperature across the wafer. You end up with edges under-cured while the center runs hot. That variability bleeds time, energy, and good die.

What matters, technically

We run a ceramic end cap IR emitter that gives sub-millimeter uniform heat distribution. The result is wafer-level thermal uniformity within ±0.1°C. The ceramic body keeps emissivity stable and snaps to temperature fast, and the engineered geometry shapes the thermal field to fit the process window. From soft bake to hard bake, the profile repeats—lot to lot, tool to tool. The system sits in Class 1–100 cleanrooms without spiking particle counts, and the ceramic construction won’t outgas and contaminate the photoresist.

Panas seragam untuk wafer 300mm IR

Mon, 01 Jun 2026 18:11:53 +0800

Pada barisan 300mm, proses pemanggangan photoresist adalah di mana anda mengunci bajet terma. Kecerunan panas atau sejuk di tepi, pergeseran semasa hard bake, dan keseragaman CD anda akan hancur—sampah bertimbun sementara penjadual terus menolak lot yang sama. Kami membina modul pemanasan IR wafer 300mm untuk mengeluarkan variabiliti itu dari persamaan.

Apa yang benar-benar penting
Mendapatkan haba seragam merentasi wafer 300mm bermula dengan susunan pemancar inframerah gelombang pendek dan reka bentuk terma berasaskan kuarza yang mengekalkan keseragaman pada tahap wafer dalam ±0.1°C merentasi keseluruhan permukaan. Lonjakan suhu boleh diulang, jadi profil soft bake dan hard bake mengikut resipi dengan tepat, satu batch demi satu batch. Modul ini beroperasi di bilik bersih Kelas 1–100 tanpa menambah zarah—pemancar yang tersegel, laluan kuarza inert, dan pemasangan yang serasi dengan bilik bersih memastikan penghasilan zarah adalah sifar.