Pada garis 300mm, perubahan sudut sebanyak setengah darjah semasa proses pembakaran fotoresist sudah cukup untuk merosakkan produk yang berkualiti tinggi menjadi bahan buangan. Memperketat toleransi pada skanner sahaja tidak akan menyelesaikan masalah ini. Langkah pembakaran itu sendiri perlu dikawal dengan teliti.
Kami telah mencipta lampu inframerah yang dilengkapi dengan alat pengudaraan untuk mengatasi dua masalah utama iaitu perubahan suhu akibat haba dan kotoran yang boleh merosakkan kualiti produk. Kedua-dua masalah ini akan mengurangkan ketepatan hasil pemprosesan sebelum ia dapat dilihat melalui graf yang dihasilkan.
Apa yang penting secara dalaman Unit ini menggabungkan pemancar inframerah gelombang pendek dengan alat pengudaraan yang terletak bersebelahan dengannya. Lampu tersebut memanaskan permukaan wafer dengan cepat dan tepat, sambil memastikan kawalan spektrum yang baik. Ini membantu mengawal perubahan suhu dan masalah lain yang mungkin timbul.
Ketepatan suhu di seluruh permukaan wafer kekal pada tahap ±0.1°C. Kami memeriksa ketepatan suhu ini menggunakan kaedah pemetaan secara langsung, bukan dengan menggunakan satu sensor sahaja. Alat pengudaraan pula membantu menghilangkan zarah-zarah dan kelembapan dari permukaan wafer, lalu mengeluarkannya dari bilik pemprosesan. Jumlah zarah-zarah tersebut kekal dalam lingkungan kelas kebersihan 1–100.
Kelebihannya ialah kawalan suhu yang stabil untuk proses pembakaran yang lembut mahupun keras, kawalan dimensi kritikal yang lebih baik, serta pengurangan keperluan untuk memproses semula produk.
Mengapa cara ini berkesan dalam proses litografi Proses pemprosesan fotoresist sangat sensitif terhadap perubahan suhu dan kotoran di udara. Unit ini dapat mencapai suhu yang diinginkan dengan cepat, jadi masa tunggu menjadi lebih singkat, dan profil pembakaran tetap stabil dari satu sesi ke sesi yang lain.
Semua bahan yang digunakan sesuai untuk digunakan dalam bilik bersih, dan saluran udara juga tertutup rapat, agar tidak ada zarah-zarah yang keluar. Penggunaan tenaga juga lebih rendah berbanding dengan oven konvensional, kerana tenaga tersebut digunakan secara langsung untuk memanaskan filem fotoresist, bukan dinding bilik pemprosesan.
Ketahanan unit ini sangat baik, kerana ia boleh beroperasi selama 5,000 jam atau lebih dengan penurunan prestasi kurang dari 5%. Ini membolehkan operasi 24/7 tanpa gangguan.
Butiran praktikal yang perlu diperhatikan Pemasangan unit ini memerlukan sistem pengudaraan yang sesuai, dan kualiti udara yang digunakan juga perlu dipastikan. Jika sistem penapisan udara tidak berkualiti, zarah-zarah akan terus masuk ke dalam bilik pemprosesan.
Lampu ini berfungsi dengan lebih baik jika ada pandangan yang jelas ke arah wafer. Oleh itu, perlu memperhatikan geometri di sekitar bilik pemprosesan.
Tekanan udara yang digunakan juga perlu diselaraskan dengan betul. Jika tekanan terlalu tinggi, ia boleh merosakkan fotoresist; jika tekanan terlalu rendah, zarah-zarah tidak dapat dibuang sepenuhnya. Selain itu, spektrum cahaya yang dihasilkan oleh lampu juga perlu disesuaikan dengan profil penyerapan fotoresist. Dengan cara ini, ketepatan hasil pemprosesan dapat dicapai.