Riscaldatore per sistema di essiccazione a wafer industriale

Fri, 26 Jun 2026 01:57:09 +0800

Nella sala di produzione, il conto alla rovescia inizia nel momento in cui il wafer esce dalla vasca di pulizia. L’umidità residua rappresenta un problema serio: presto compaiono delle macchie, e anche una sola traccia d’acqua può compromettere l’intera linea di produzione. Non si può permettere l’uso di un riscaldatore che non riesce a mantenere la temperatura desiderata. È necessario un riscaldatore in grado di mantenere costante la temperatura su tutto il wafer, ogni singola volta.

Sistema on Cutting-Edge IR Heating Technology

Riscaldatore per sistema di essiccazione a wafer industriale