Lampada a infrarossi per la polimerizzazione del photoresist

Mon, 22 Jun 2026 19:38:13 +0800

Nelle linee di produzione, il bilancio termico per la litografia inizia con le fasi di “soft bake” e “hard bake”. Una variazione di temperatura di 1,5°C, o la presenza di zone fredde sulla superficie del wafer, può causare cambiamenti rapidi nelle dimensioni critiche del prodotto. È così che si finisce per buttare via intere parti prodotte e si arresta la linea di produzione.

Abbiamo progettato delle lampade a infrarossi per la cura del fotorestist, al fine di mantenere stabile il profilo termico, turno dopo turno.

Fotorresistente on Cutting-Edge IR Heating Technology

Lampada a infrarossi per la polimerizzazione del photoresist