IR on Cutting-Edge IR Heating Technology

Sensor IR berkualitas tinggi untuk wafer

Wed, 22 Jul 2026 02:41:19 +0800

Hentikan lampu IR Anda dari merusak wafer Anda
Jika Anda pernah mengalami situasi di mana lampu meledak saat proses produksi sedang berlangsung, maka Anda pasti tahu betapa menyakitkannya hal tersebut. Yang paling parah bukanlah waktu henti produksi yang terjadi, melainkan kekacauan yang ditimbulkan. Serpihan kuarsa dan gas halogen yang jatuh ke permukaan silikon merupakan bencana bagi proses produksi. Satu ledakan saja sudah cukup untuk menyebabkan kontaminasi yang dapat merusak seluruh batch produk. Ini merupakan kesalahan yang mahal harganya, tetapi sebenarnya mudah untuk dihindari. Kami membuat lampu IR berkualitas tinggi agar hal ini tidak terjadi.

Reflektor aluminium untuk lampu IR

Thu, 09 Jul 2026 14:23:34 +0800

Lampu IR dengan Reflektor Alumunium: Panas yang Terfokus, Tidak Ada Pemborosan Energi
Kami menciptakan lampu IR dengan reflektor alumunium ini untuk satu tujuan saja: mengarahkan panas tepat ke tempat yang diperlukan, dan tidak ke tempat lainnya. Dalam industri semikonduktor dan manufaktur presisi, panas yang berlebihan bukan hanya membazir energi, tetapi juga dapat menyebabkan overheating pada komponen-komponen yang mahal, serta menimbulkan masalah keselamatan yang serius.

Daya, tegangan, dan bentuk yang disesuaikan dengan kebutuhan
Pemanasan yang terarah dimulai dari penyesuaian detail listrik dan fisik sesuai dengan ruang yang akan dipanaskan. Lampu-lampu ini berbentuk tabung kecil, sekitar 300 mm panjangnya, sehingga panas dapat dikonsentrasikan di area kecil saja, tanpa perlu memanaskan seluruh ruangan. Lampu-lampu ini dirancang untuk digunakan pada tegangan tinggi, biasanya 400 V, sehingga dapat berfungsi secara stabil dalam lingkungan industri di mana tegangan lebih konsisten dibandingkan dengan sumber listrik biasa. Daya yang digunakan cukup tinggi agar panas dapat dihasilkan dengan cepat, sehingga kontrol suhu pun menjadi lebih mudah. Ini merupakan sistem pemanasan yang efisien, di mana panas dialokasikan tepat ke tempat yang diperlukan.

Stok lampu IR yang banyak.

Mon, 06 Jul 2026 04:25:11 +0800

Lampu Inframerah Berdaya Tinggi untuk Proses Pembuatan Semikonduktor
Butuh pengganti langsung untuk peralatan produksi Anda? Kami memiliki solusinya. Stok kami penuh dengan lampu inframerah yang dapat menggantikan lampu asli, dengan daya dan keandalan yang setara.

Lampu-lampu ini bukanlah lampu pemanas biasa. Lampu-lampu ini dirancang khusus untuk memenuhi tuntutan ketat dalam proses pembuatan semikonduktor—di mana kontrol suhu yang tepat dan respons yang cepat sangat penting.

Spesifikasi yang Penting: Daya, Tegangan, Ukuran
Mari kita lihat detail-detail yang mempengaruhi kinerja lampu ini.
Lampu ini memiliki daya 400V, 2500W, sehingga mampu menghasilkan panas yang besar dalam ruang yang terbatas. Lampu ini dirancang untuk terhubung langsung ke sistem listrik standar pada peralatan canggih, sehingga Anda tidak perlu merombak kabel apa pun.

Penutup keramik untuk pemancar IR

Tue, 09 Jun 2026 01:25:58 +0800

Di lantai produksi, profil pemanggangan mengalami pergeseran—dan hasil produksinya turun. Emitter konvensional tidak mampu mempertahankan suhu secara merata di seluruh wafer. Akibatnya, tepi wafer menjadi kurang matang sementara bagian tengahnya terlalu panas. Variasi ini mengakibatkan pemborosan waktu, energi, dan die yang baik.

Apa yang penting, secara teknis

Kami menggunakan emitter IR dengan end cap keramik yang memberikan distribusi panas seragam sub-milimeter. Hasilnya adalah uniformitas termal di level wafer dalam kisaran ±0,1°C. Badan keramik menjaga emisivitas tetap stabil dan merespon suhu dengan cepat, sementara geometri yang dirancang membentuk bidang termal agar sesuai dengan jendela proses.
Dari soft bake hingga hard bake, profilnya konsisten—dari batch ke batch, dari alat ke alat. Sistem ini beroperasi di ruang bersih kelas 1–100 tanpa meningkatkan jumlah partikel, dan konstruksi keramik tidak mengeluarkan gas yang bisa mencemari fotoresist.

Panas seragam untuk wafer IR 300mm

Mon, 01 Jun 2026 18:11:53 +0800

Pada lini 300mm, proses pemanggangan photoresist adalah tahap di mana anggaran termal dikunci. Tepi yang terlalu panas atau dingin, pergeseran selama hard bake, dan uniformitas CD Anda akan rusak—limbah menumpuk sementara penjadwal terus mendorong lot yang sama. Kami mengembangkan modul pemanas IR wafer 300mm untuk menghilangkan variabilitas tersebut dari persamaan.

Apa yang benar-benar penting
Mendapatkan panas yang seragam di seluruh wafer 300mm dimulai dengan array pemancar inframerah gelombang pendek dan desain termal berbasis kuarsa yang menjaga uniformitas tingkat wafer dalam ±0,1°C di seluruh permukaan. Kurva kenaikan suhu dapat diulang, sehingga profil soft bake dan hard bake mengikuti resep dengan tepat, batch demi batch. Modul ini beroperasi di ruang bersih Kelas 1–100 tanpa menambah partikel—pemancar yang tersegel, jalur kuarsa inert, dan perlengkapan yang kompatibel dengan ruang bersih menjaga produksi partikel tetap nol.