फोटोरेसिस्ट को सूखाने हेतु इन्फ्रारेड लैंप

Mon, 22 Jun 2026 19:38:16 +0800

फैब फ्लोर पर, लिथोग्राफी हेतु आवश्यक ऊष्मा-संबंधी मापदंडों की गणना “सॉफ्ट बेक” एवं “हार्ड बेक” प्रक्रियाओं से शुरू होती है। वेफर पर 1.5°C का अंतर, या कोई “कोल्ड स्पॉट”, महत्वपूर्ण आयामों को तेजी से प्रभावित कर देता है; इस कारण पूरे उत्पादन दल बर्बाद हो जाते हैं।
हमने ऐसी इन्फ्रारेड लैंपें विकसित कीं, जिससे ऊष्मा-संबंधी मापदंड स्थिर रहें।
वास्तव में, वेफर स्तर पर नियंत्रण ही महत्वपूर्ण है। हमारे NIR लैंप, ऊर्जा को तुरंत फोटोरेसिस्ट में ही भेजते हैं; इससे वेफर की समतलता ±0.1°C के भीतर ही बनी रहती है। लैंप का शरीर क्वार्ट्ज से बना है, एवं इसमें उच्च-शुद्धता वाले रिफ्लेक्टर हैं; इसलिए यह क्लास 1–100 में बिना किसी रुकावट के काम करता है।
आउटपुट की दोहराव-क्षमता 24 घंटे तक 0.5% के भीतर ही रहती है; क्लोज्ड-लूप नियंत्रण से ऊष्मा-संबंधी मापदंड स्थिर रहते हैं।
व्यावहारिक रूप से, यह तरीका अंतरराष्ट्रीय सेमीकंडक्टर उपकरण मानकों के अनुरूप है; इससे CD नियंत्रण बेहतर होता है, पुनः-प्रसंस्करण की आवश्यकता कम हो जाती है, एवं बर्बाद होने वाले उत्पादों की मात्रा भी कम हो जाती है।
ऊर्जा-खपत कम होती है, क्योंकि लैंप केवल फोटोरेसिस्ट को ही गर्म करता है, पूरे चैंबर को नहीं। हमने ऐसे लैंपों को 5,000 घंटे से अधिक समय तक इस्तेमाल किया है; इस दौरान आउटपुट में 5% से भी कम की गिरावट देखी गई।
कुछ व्यावहारिक बातें: ये लैंप मानक SEMI इंटरफेसों एवं लिथोग्राफी प्रक्रियाओं के अनुरूप हैं; लेकिन इनके एकीकरण हेतु ध्यान देने की आवश्यकता है – स्टेज का ऊष्मा-भार एवं वेंटिलेशन पथ भी महत्वपूर्ण हैं।
अपने फोटोरेसिस्ट स्टैक के अनुरूप लैंप के प्रोफाइल को समायोजित करने हेतु एक छोटा सा ट्यूनिंग प्रक्रिया आवश्यक है। एक बार यह समायोजन हो जाने के बाद, प्रक्रिया नियंत्रण में ही रहती है, एवं उत्पादन जारी रहता है।

फोटोरेजिस्ट on Cutting-Edge IR Heating Technology

फोटोरेसिस्ट को सूखाने हेतु इन्फ्रारेड लैंप