Chauffage uniforme pour wafer IR de 300 mm

Mon, 01 Jun 2026 18:11:53 +0800

Sur une ligne 300mm, le recuit du photoresist est l’étape où l’on verrouille le budget thermique. Un bord trop chaud ou trop froid, une dérive pendant le durcissement, et l’uniformité du CD se dégrade — les rebuts s’accumulent pendant que le planificateur continue de lancer le même lot. Nous avons conçu le module de chauffage IR pour wafer 300mm afin d’éliminer cette variabilité.

Ce qui importe réellement

Obtenir une chaleur uniforme sur un wafer 300mm commence par un réseau d’émetteurs infrarouges à ondes courtes et une conception thermique à base de quartz qui maintient l’uniformité au niveau du wafer dans une plage de ±0,1°C sur toute la surface. Les rampes de température sont reproductibles, de sorte que les profils de soft bake et de hard bake suivent exactement la recette, lot après lot. Le module fonctionne en salle blanche Class 1–100 sans générer de particules — les émetteurs scellés, les parcours en quartz inerte et les fixations compatibles salle blanche maintiennent la production de particules à zéro.

Uniforme on Cutting-Edge IR Heating Technology

Chauffage uniforme pour wafer IR de 300 mm