En la línea de 300 mm, una deriva de medio grado durante el proceso de secado del fotorrésisto es suficiente para convertir un producto de calidad en chatarra. Ajustar las tolerancias del escáner por sí solo no resolverá ese problema. El paso de secado debe ser lo suficientemente preciso para evitar tales errores.
Construimos una lámpara infrarroja con una cuchilla de aire integrada, con el objetivo de combatir esos dos problemas principales: la deriva térmica y la contaminación. Ambos factores afectan negativamente la precisión del proceso, incluso antes de que se puedan observar en los gráficos de control.
Lo que realmente importa La unidad combina un emisor de infrarrojos de onda corta con una cuchilla de aire situada justo al lado de él. La lámpara calienta rápidamente y de manera directa, con un preciso control espectral. Esto permite mantener bajo control la deriva térmica y los excesos de calor.
La uniformidad de temperatura en toda la superficie del wafer se mantiene en ±0.1°C. Verificamos esto mediante mapeo in situ, y no mediante la extrapolación de datos provenientes de un único sensor. La cuchilla de aire crea un flujo laminar que elimina las partículas y la humedad de la superficie, y luego expulsa todo ello fuera de la cámara. El número de partículas permanece dentro de los rangos permitidos para una sala limpia de clase 1–100.
El resultado es un equilibrio térmico estable tanto en los procesos de secado suave como duro, un control preciso de las dimensiones críticas del producto, y menos necesidades de re trabajo.
Por qué funciona en la litografía El procesamiento del fotorrésisto es muy sensible a las condiciones térmicas y a los defectos presentes en el aire. Esta unidad alcanza rápidamente la temperatura deseada, lo que reduce el tiempo de inactividad y mantiene constante el perfil de secado de una corrida a otra.
Todos los materiales utilizados son compatibles con salas limpias, y la ruta del aire está sellada, por lo que no hay riesgo de liberación de gases o partículas. El consumo energético es menor que el de los hornos convencionales, ya que la energía va directamente al fotorrésisto, y no a las paredes de la cámara de calefacción.
La fiabilidad se refiere al tiempo de funcionamiento continuo. Las unidades pueden funcionar más de 5,000 horas con menos del 5% de pérdida de rendimiento, lo que permite un funcionamiento continuo 24/7 sin interrupciones.
Detalles prácticos que no se pueden pasar por alto La instalación requiere una conexión dedicada para la extracción de aire, y también es necesario verificar la calidad del suministro de aire. Si el filtrado no es adecuado, se volverán a introducir partículas en el sistema.
La lámpara funciona mejor cuando hay una visión clara del wafer, así que hay que prestar atención a la geometría alrededor de la cámara de procesamiento.
Es necesario ajustar la presión de la cuchilla de aire dentro de los límites adecuados. Si es demasiado alta, se puede dañar el fotorrésisto; si es demasiado baja, no se logrará eliminar las partículas. Además, es importante que el espectro de luz emitido por la lámpara coincida con el perfil de absorción del fotorrésisto. Así se logra la máxima uniformidad posible.