Heizgerät für industrielle Wafer Trocknungsanlagen

Fri, 26 Jun 2026 01:57:09 +0800

In der Fertigungsstätte beginnt die Zeiterfassung genau in dem Moment, in dem der Wafer das Reinigungsbad verlässt. Restfeuchtigkeit ist ein echtes Problem – es entstehen schnell Streifen auf der Oberfläche des Wafers, und bereits eine einzige Feuchtigkeitsstelle kann dazu führen, dass die gesamte Produktionslinie stillgelegt werden muss. Man kann sich keinen Heizer leisten, der den gewünschten Temperaturwert nur ungenau erreicht. Es muss vielmehr ein Heizer sein, der diesen Wert jederzeit und über die gesamte Fläche des Wafers hinweg konstant hält.

System on Cutting-Edge IR Heating Technology

Heizgerät für industrielle Wafer Trocknungsanlagen