IR on Cutting-Edge IR Heating Technology

Präziser Infrarot Sensor für Wafern

Wed, 22 Jul 2026 02:41:19 +0800

Verhindern Sie, dass Ihre IR-Lampen Ihre Wafer zerstören
Wenn Ihnen schon einmal eine Lampe mitten in einem intensiven Betriebszyklus ausgefallen ist, kennen Sie das Problem. Es geht nicht nur um die dadurch entstehende Stillstandzeit – es geht auch um den Schmutz, der entsteht. Quarzkörner und Halogengas, die auf die Siliziumwafer fallen, sind ein Albtraum. Ein einziger Ausfall kann dazu führen, dass ganze Chargen ruiniert werden. Das ist ein teurer Fehler – doch er lässt sich überraschend leicht vermeiden. Wir haben unsere präzisen IR-Lampen so konstruiert, dass das nicht passiert.

Aluminium Reflektor für Infrarotlampe

Thu, 09 Jul 2026 14:23:33 +0800

Aluminiumreflektor-IR-Lampen: Präzises Heizen, keine Verschwendung von Energie
Wir haben diese Aluminiumreflektor-IR-Lampen aus einem einzigen Grund entwickelt: Um die Wärme genau dorthin zu leiten, wo sie benötigt wird – und nirgendwo sonst. In der Halbleiter- und Präzisionsfertigung ist überschüssige Wärme nicht nur verschwenderisch, sondern kann auch dazu führen, dass Gehäuse überhitzt werden, teure Komponenten geschädigt werden sowie echte Sicherheitsprobleme entstehen.

Leistung, Spannung und Form – angepasst an den Einsatzbereich
Das gezielte Heizen beginnt damit, die elektrischen und physikalischen Eigenschaften der Lampen auf den jeweiligen Einsatzbereich abzustimmen.
Diese Lampen sind kompakte Rohre mit einer Länge von etwa 300 mm. Dadurch kann die Wärme in einem kleinen Bereich konzentriert werden, ohne dass der ganze Raum erhitzt werden muss.
Sie sind für hohe Spannungen ausgelegt – typischerweise 400 V – was sie in industriellen Anwendungen stabil hält, wo die Spannung konstanter sein kann als in herkömmlichen Anlagen.
Die Leistungsklasse dieser Lampen sorgt für eine hohe Wärmestufe, sodass ein schnelles Erwärmen sowie eine zuverlässige Temperaturregelung während kritischer Schritte möglich sind. Es handelt sich dabei um ein gezieltes Heizen – intensive Wärme genau dort, wo sie benötigt wird.

Großer Bestand an hochwertigen IR Lampen

Mon, 06 Jul 2026 04:25:08 +0800

Hochleistungs-Infrarotlampen für die Halbleiterfertigung
Benötigen Sie einen direkten Ersatz für Ihre Fertigungsgeräte? Wir haben die Lösung für Sie. Unsere Lagerbestände enthalten Infrarotlampen, die perfekt als Ersatz dienen – mit derselben Leistung und Zuverlässigkeit wie die Originallampen.

Es handelt sich dabei nicht um gewöhnliche Heizgeräte. Sie sind speziell für die anspruchsvollen Anforderungen der Halbleiterfertigung entwickelt – dort sind eine präzise Temperaturregelung sowie eine schnelle Reaktionszeit unverzichtbar.

Wichtige Eigenschaften: Leistung, Spannung, Abmessungen
Schauen wir uns die wichtigen Details an, die den Unterschied ausmachen.
Unsere Lampen mit 400 V und 2500 W liefern enorme Leistung in einem kompakten Format. Sie können direkt in das Standardstromnetz der hochwertigen Fertigungsgeräte eingesteckt werden – ohne dass weitere Verkabelungen notwendig sind.
Die Länge des Quarzkörpers beträgt 300 mm – das ist eine Standardgröße. Die Lampe passt problemlos in vorhandene Halterungen, ohne dass die Anordnung der Maschine beeinträchtigt wird. Die Installation ist somit schnell, und die Stillstandszeiten bleiben minimal.

Keramik Endkappe für IR Emitter

Tue, 09 Jun 2026 01:25:58 +0800

Auf der Fertigungsebene driftet das Bake-Profil – und der Ertrag leidet darunter. Konventionelle Strahler können die Temperatur über das Wafer nicht konstant halten. Am Rand bleibt die Aushärtung unzureichend, während die Mitte überhitzt. Diese Schwankungen kosten Zeit, Energie und gute Dies.

Technisch relevante Aspekte

Wir verwenden einen keramischen Endkappen-IR-Strahler, der eine gleichmäßige Wärmeverteilung im Submillimeterbereich gewährleistet. Das Ergebnis ist eine thermische Gleichmäßigkeit auf Wafer-Ebene innerhalb von ±0,1°C. Der keramische Körper sorgt für eine stabile Emissivität und reagiert schnell auf Temperaturänderungen. Die konstruierte Geometrie formt das thermische Feld so, dass es in das Prozessfenster passt.

Gleichmäßige Erwärmung für 300 mm Wafer IR

Mon, 01 Jun 2026 18:11:53 +0800

Auf einer 300mm-Linie ist das Fotoresist-Backen der Punkt, an dem das thermische Budget festgelegt wird. Eine heiße oder kalte Kante, eine Drift während des Hardbake, und die CD-Uniformität bricht zusammen – Ausschuss sammelt sich an, während der Scheduler dasselbe Los weiter vorantreibt. Wir haben das 300mm-Wafer-IR-Heizmodul entwickelt, um diese Variabilität aus der Gleichung zu entfernen.
Was tatsächlich zählt
Eine gleichmäßige Wärmeverteilung über einen 300mm-Wafer beginnt mit einem Kurzwelligen-Infrarot-Emitter-Array und einem quarzbasierten thermischen Design, das die Wafer-Ebenen-Uniformität über die gesamte Oberfläche innerhalb von ±0,1°C hält. Temperaturanstiege sind reproduzierbar, sodass Softbake- und Hardbake-Profile das Rezept exakt abbilden – Charge für Charge. Das Modul läuft in Reinräumen der Klasse 1–100, ohne Partikel zu generieren – abgedichtete Emitter, inert ausgeführte Quarzpfade und reinraumkompatible Halterungen sorgen für Null-Partikel-Emission.
Der Grund, warum das in der Lithografie wichtig ist: Das Backen ist nicht nur Erhitzen, sondern Prozesskontrolle. Das Modul hält den Sollwert im 7×24-Betrieb ohne ungeplante Ausfälle, sodass kontinuierliche Chargen ohne thermische Drifts verarbeitet werden können. Das Ergebnis sind stabile CDs, weniger Nacharbeit und planbare Ausbeuten. Zudem ist das System effizient – die Emitter-Arrays heizen nur den Zielbereich mit schneller Reaktion, und das lange Wartungsintervall hält die Wartungsfenster kurz.
Einige praktische Hinweise vor der Spezifikation: Das Modul lässt sich in bestehende Tracks und Bake-Platten integrieren, benötigt jedoch einen eigenen Stromkreis und eine verifizierte Kühlmitteltemperaturstabilität an der Schnittstelle. Das thermische Masseverhältnis zwischen Träger und Bake-Platte muss zwingend übereinstimmen; selbst kleine Abweichungen führen zu Kanten-zu-Kanten-Variationen. Die mechanischen Abmessungen und Reinraumabstände sollten im Vorfeld präzise festgelegt werden, damit das Modul genau wie spezifiziert läuft.