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		<title>Heilung on Cutting-Edge IR Heating Technology</title>
		<link>http://ir-heater-tech.com/de/tags/heilung/</link>
		<description>Recent content in Heilung on Cutting-Edge IR Heating Technology</description>
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				<title>Reflektor für Wafer Härtungslampe</title>
				<link>http://ir-heater-tech.com/de/posts/preventing-wafer-contamination-via-infrared-lamp-reflector-design/</link>
				<pubDate>Sat, 25 Jul 2026 02:51:14 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heater-tech.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Reflektor für Wafer Härtungslampe&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Vermeiden Sie, dass die Stopplampen Ihre Wafer zerstören&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Wenn eine Lampe während der Trocknung der Wafer ausfällt, handelt es sich nicht nur um ein Problem bezüglich der Produktionsunterbrechung – es ist vielmehr ein echter Albtraum. Stellen Sie sich vor, eine Quarztube würde unter hoher Belastung zerbrechen. Plötzlich fallen Glassplitter sowie Halogengas direkt auf das Silizium. Das ist ein Chaos. Genau deshalb gestalten wir unsere Reflektoren so, dass sie mehr sind als nur glänzende Metallstücke – sie bilden somit Ihre erste Verteidigungslinie.&lt;/p&gt;</description>
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				<title>Infrarotlampe zur Aushärtung des Fotorezysts</title>
				<link>http://ir-heater-tech.com/de/posts/photoresist-curing-infrared-lamp/</link>
				<pubDate>Mon, 22 Jun 2026 19:38:13 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heater-tech.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Infrarotlampe zur Aushärtung des Fotorezysts&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Auf der Fertigungsstraße beginnt das thermische Management bei der Lithografie mit dem „Soft Bake“- und „Hard Bake“-Prozess. Eine Abweichung von 1,5 °C oder eine kühle Stelle auf der Wafer-Oberfläche können dazu führen, dass die kritischen Abmessungen stark verändert werden. Dadurch gehen ganze Chargen verloren und die Produktion kommt ins Stocken.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Wir haben Infrarotlampen entwickelt, um dieses thermische Profil von Schicht zu Schicht stabil zu halten. Was wirklich wichtig ist, ist die Kontrolle auf der Ebene der Wafer selbst. Unsere NIR-Lampen liefern Energie direkt in den Photoresist – schnell und effektiv – und halten die Homogenität der Waferoberfläche bei ±0,1 °C. Der Lampenkörper besteht aus Quarz, und die Reflektoren sind hochrein. Dadurch funktioniert die Lampe in der Klasse 1–100 ohne das Auftreten von Partikeln.&lt;/p&gt;</description>
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