На виробничій лінії термічний режим під час процесу літографії починається з етапів „м’якого“ та „жорсткого“ випалювання фотопрозорого шару. Навіть незначна зміна температури на рівні 1,5°C може значно вплинути на критичні розміри деталей. Саме тому можуть виникнути проблеми з цілими партіями продукції та зупинка роботи лінії.
Ми створили інфрачервоні лампи для випалювання фотопрозорого шару, які допомагають підтримувати стабільний термічний профіль протягом усього процесу виробництва.
Найважливіше – це контроль на рівні самого кристала. Наш джерело короткохвильового інфрачервоного світла швидко передає енергію безпосередньо в фотопрозорий шар, що дозволяє підтримувати однорідність температури на поверхні кристала в межах ±0,1°C. Корпус лампи виготовлений з кварцу, а також має високоякісні відбивачі, що забезпечує чисту роботу лампи в класі 1–100 без утворення частинок.
Стабільність результатів виробництва залишається на рівні 0,5% протягом усього часу роботи, а система замкнутого контролю дозволяє підтримувати термічний профіль на заданому рівні – без перевищень.
Це працює на практиці тому, що цей пристрій відповідає міжнародним стандартам для обладнання з виробництва напівпровідників. Це дозволяє краще контролювати розміри деталей, зменшити кількість необхідних корекцій та скоротити кількість відходів.
Витрати енергії знижуються, оскільки лампа нагріває саме фотопрозорий шар, а не всю камеру. Ми вже експлуатуємо такі пристрої протягом 5 000 годин, і спостерігаємо зниження продуктивності менше ніж на 5%, що дозволяє зберігати стабільність процесу виробництва.
Кілька практичних порад: лампа сумісна зі стандартними інтерфейсами SEMI та загальноприйнятими технологіями випалювання фотопрозорого шару. Однак для правильної інтеграції потрібно враховувати термічну щільність елементів та шляхи відведення тепла.
Необхідно провести коротку перевірку для налаштування параметрів пристрою відповідно до вашого типу фотопрозорого шару. Після цього процес буде контрольованим, а лінія зможе продовжувати роботу.