Di bilik pengeluaran, proses penyejukan yang diperlukan untuk proses litografi bermula dengan langkah “soft bake” dan “hard bake”. Perubahan suhu sebanyak 1.5°C, atau adanya kawasan sejuk pada permukaan wafer, boleh menyebabkan perubahan mendadak pada dimensi-dimensi penting wafer tersebut. Inilah sebabnya mengapa keseluruhan produk yang dihasilkan menjadi tidak berkualiti, dan proses pengeluaran terhenti.
Kami telah mencipta lampu inframerah khusus untuk memastikan profil suhu kekal stabil, dari satu sesi pengeluaran ke sesi yang lain. Yang paling penting ialah kawalan suhu pada tahap wafer itu sendiri. Sumber cahaya NIR yang digunakan akan menghantar tenaga secara langsung ke lapisan photoresist, dengan cepat, dan memastikan keseragaman suhu pada permukaan wafer dalam lingkungan ±0.1°C. Badan lampu tersebut diperbuat daripada kuarsa, dengan komponen reflektor yang berkualiti tinggi, jadi ia dapat beroperasi dengan sempurna dalam persekitaran kelas 1–100 tanpa menimbulkan zarah-zarah berbahaya.
Pengulangan hasil pengeluaran tetap berada dalam lingkungan 0.5%, dan sistem kawalan tertutup memastikan profil suhu tetap stabil pada tahap yang ditetapkan – tanpa ada penyimpangan.
Inilah sebabnya mengapa kaedah ini berkesan dalam praktiknya: ia memenuhi standard suhu yang ditetapkan oleh industri semikonduktor antarabangsa. Dengan cara ini, kawalan terhadap dimensi wafer menjadi lebih baik, jumlah kerja ulang berkurangan, dan pembaziran produk juga berkurangan.
Penggunaan tenaga juga berkurangan, kerana lampu tersebut hanya memanaskan lapisan photoresist sahaja, bukan seluruh ruang pengeluaran. Kami telah menggunakan lampu ini selama lebih dari 5,000 jam, dan penurunan prestasi kurang dari 5%. Ini memastikan kualiti proses pengeluaran tetap konsisten dari satu batch ke batch yang lain.
Beberapa perkara penting yang perlu diperhatikan: lampu ini serasi dengan antaramuka SEMI standard serta proses pengeluaran litografi biasa. Namun, integrasinya masih memerlukan perhatian – masalah seperti jisim haba pada setiap tahap proses serta saluran pengudaraan juga perlu dipertimbangkan.
Rancanglah ujian pendek untuk menyesuaikan profil suhu agar sesuai dengan jenis photoresist yang digunakan. Setelah ditetapkan, proses pengeluaran akan tetap terkawal, dan operasi pengeluaran dapat berjalan lancar.