300mm 공정에서는, 소프트 베이크 과정 중에 온도가 0.5도만 변동해도 치명적인 결과를 초래할 수 있습니다. 그로 인해 많은 웨이퍼들이 폐기되고 맙니다. 이러한 초고순도 물을 이용한 가열 장치는 단순한 추가 장비가 아닙니다. 이는 클래스 1–100 청정실 내에서 포토레지스트 처리 과정을 안정적으로 유지시켜주는 핵심적인 역할을 합니다.
저희는 물의 흡수 특성과 잘 맞는 단파 적외선을 활용하여 이 장치를 설계했습니다. 그 덕분에 빠르게 가열이 이루어지며, 과열 현상도 없습니다. 유체 경로 전체의 온도 균일성은 ±0.1°C 이내로 유지되므로, 반복적인 처리 과정에서도 일관된 결과를 얻을 수 있습니다. 석영과 내식성이 뛰어난 부품들을 사용함으로써 입자 발생을 최소화하고, 고순도 물과의 지속적인 접촉에도 문제가 없습니다.
5,000시간 이상 동안도 출력이 안정적으로 유지되며, 강도 감소율은 5% 미만입니다. 이 장치는 24/7 연속 작동에 적합하며, 계획하지 않은 정지 시간도 전혀 없습니다.
리소그래피 공정에서는 소프트 베이크와 하드 베이크 과정에서 매우 정밀한 온도 조절이 필요합니다. 이 장치는 베이크 판에 물을 공급하는 시스템을 안정적으로 제어하여, 웨이퍼의 온도가 일정한 범위 내에 유지되도록 합니다. 그 결과, 예측 가능한 치수 제어가 가능해지고, 재작업 및 폐기물도 줄어듭니다.
에너지 소비도 줄어듭니다. 단파 적외선은 필요할 때만 작동하기 때문에, 불필요한 에너지 낭비가 없습니다. 또한 오랜 수명 덕분에 유지보수 작업도 용이합니다.
실용적인 측면을 보면, 이 장치는 크기가 작아서 유체 경로와 정확하게 맞춰져야 하며, 정기적인 점검이 필요합니다. 기존 장비에 그냥 연결해서 사용할 수 있다고 생각하지 마세요. 반드시 통합 과정을 면밀히 검토해야 합니다.
고순도 물의 전도도, 유량, 그리고 커넥터의 호환성을 확인해야 합니다. 이 모든 조건이 만족된다면, 원하는 수준의 반복성을 얻을 수 있으며, 추가적인 조정이 필요 없습니다.