Nelle linee di produzione, il bilancio termico per la litografia inizia con le fasi di “soft bake” e “hard bake”. Una variazione di temperatura di 1,5°C, o la presenza di zone fredde sulla superficie del wafer, può causare cambiamenti rapidi nelle dimensioni critiche del prodotto. È così che si finisce per buttare via intere parti prodotte e si arresta la linea di produzione.
Abbiamo progettato delle lampade a infrarossi per la cura del fotorestist, al fine di mantenere stabile il profilo termico, turno dopo turno.
Quello che conta davvero è il controllo a livello del wafer stesso. La nostra sorgente a onde corte NIR trasferisce energia direttamente nel fotorestist, in modo rapido, mantenendo l’uniformità della temperatura sulla superficie del wafer entro ±0,1°C. Il corpo della lampada è realizzato in quarzo, con riflettori ad alta purezza; quindi funziona senza generare particelle indesiderate, in condizioni di Classe 1–100.
La ripetibilità dei risultati rimane entro lo 0,5%, 24 ore su 24. Il controllo a circuito chiuso mantiene il profilo termico stabile, senza alcuna deviazione.
Ecco perché questo sistema funziona nella pratica: rispetta gli standard internazionali per i dispositivi semiconduttori, e può essere considerato un equivalente valido. In questo modo si ottiene un controllo più preciso delle dimensioni dei componenti, meno necessità di rifacimento dei processi e meno scarti.
L’uso energetico diminuisce, poiché la lampada riscalda soltanto il fotorestist, e non l’intera camera di produzione. Abbiamo utilizzato queste lampade per oltre 5.000 ore, registrando una diminuzione dell’efficienza inferiore allo 0,5%; questo garantisce costanza nei parametri di produzione, anche tra diversi lotti.
Alcune note pratiche: la lampada è compatibile con gli standard SEMI e con i dispositivi di cottura utilizzati nella litografia. Tuttavia, è necessario prestare attenzione all’integrazione della lampada nella linea di produzione: la massa termica dello stadio di riscaldamento e il percorso dell’aria di scarico sono fattori importanti da considerare.
È consigliabile effettuare un breve periodo di test per regolare il profilo termico in base alle caratteristiche specifiche del fotorestist utilizzato. Una volta impostato correttamente, il processo rimane sotto controllo, permettendo alla linea di produzione di continuare a funzionare senza problemi.