Di fasilitas produksi, proses termal yang digunakan dalam litografi dimulai dengan tahap pemanasan awal dan pemanasan lebih lanjut. Perubahan suhu sebesar 1,5°C, atau adanya area yang dingin di permukaan wafer, dapat menyebabkan perubahan drastis pada dimensi-dimensi penting dari wafer tersebut. Hal ini tentu akan membuat seluruh produk yang dihasilkan tidak berkualitas, sehingga proses produksi pun terhambat.
Kami membuat lampu inframerah khusus untuk memastikan profil termal tetap stabil, dari satu shift ke shift berikutnya. Yang benar-benar penting adalah pengendalian suhu di tingkat wafer itu sendiri. Sumber cahaya inframerah pendek yang kami gunakan mampu mengirimkan energi secara cepat ke lapisan fotoresist, sehingga suhu permukaan wafer tetap stabil dalam rentang ±0,1°C. Badan lampu terbuat dari kuarsa, dengan reflektor berkualitas tinggi, sehingga lampu ini dapat bekerja dengan baik dalam kondisi lingkungan kelas 1–100, tanpa menimbulkan partikel-partikel pengganggu.
Repetibilitas hasil produksi tetap berada dalam kisaran 0,5%, sepanjang waktu. Kontrol berbasis loop tertutup juga memastikan bahwa profil termal tetap sesuai dengan nilai yang ditentukan, tanpa adanya penyimpangan.
Alasan mengapa metode ini efektif adalah karena ia memenuhi standar termal yang berlaku untuk peralatan semikonduktor internasional. Dengan demikian, kontrol atas dimensi wafer menjadi lebih baik, jumlah produk yang perlu diperbaiki berkurang, dan limbah yang dihasilkan juga berkurang.
Penggunaan energi pun berkurang, karena lampu hanya memanaskan lapisan fotoresist saja, bukan seluruh ruang produksi. Kami telah menggunakan lampu ini selama lebih dari 5.000 jam, dan penurunan kinerja lampu tidak melebihi 5%. Hal ini memastikan bahwa proses pembuatan fotoresist tetap konsisten dari satu batch ke batch berikutnya.
Beberapa hal yang perlu diperhatikan: lampu ini kompatibel dengan antarmuka SEMI standar serta proses pemanasan litografi yang umum digunakan. Namun, integrasinya masih memerlukan perhatian khusus, terutama terkait massa termal dari komponen-komponen terkait serta jalur pengeluaran udara panas.
Sebaiknya lakukan uji coba singkat untuk menyesuaikan profil termal sesuai dengan jenis fotoresist yang digunakan. Setelah itu, proses produksi akan tetap terkendali, dan produksi dapat berjalan lancar.