
Auf der Fertigungsstraße beginnt das thermische Management bei der Lithografie mit dem „Soft Bake“- und „Hard Bake“-Prozess. Eine Abweichung von 1,5 °C oder eine kühle Stelle auf der Wafer-Oberfläche können dazu führen, dass die kritischen Abmessungen stark verändert werden. Dadurch gehen ganze Chargen verloren und die Produktion kommt ins Stocken.
Wir haben Infrarotlampen entwickelt, um dieses thermische Profil von Schicht zu Schicht stabil zu halten. Was wirklich wichtig ist, ist die Kontrolle auf der Ebene der Wafer selbst. Unsere NIR-Lampen liefern Energie direkt in den Photoresist – schnell und effektiv – und halten die Homogenität der Waferoberfläche bei ±0,1 °C. Der Lampenkörper besteht aus Quarz, und die Reflektoren sind hochrein. Dadurch funktioniert die Lampe in der Klasse 1–100 ohne das Auftreten von Partikeln.
Die Reproduzierbarkeit der Leistung bleibt die ganze Zeit über bei 0,5 %. Die geschlossene Regelung sorgt dafür, dass das thermische Profil stets am gewünschten Wert bleibt – es kommt zu keiner Überschreitung des Zielwerts.
Der Grund dafür ist einfach: Die Lösung erfüllt die internationalen Standards für Halbleiterausrüstungen und kann als valide Alternative verwendet werden. Dadurch wird eine bessere Kontrolle der Abmessungen erreicht, es müssen weniger Nachbearbeitungen durchgeführt werden, und weniger Material geht verloren.
Der Energieverbrauch sinkt, da die Lampe nur den Photoresist erwärmt – nicht den gesamten Behälter. Wir haben die Geräte bereits über 5.000 Stunden lang im Betrieb gehabt – dabei lag der Leistungsverlust bei weniger als 5 %. Dadurch bleiben die Prozessbedingungen konstant, unabhängig von den Chargen.
Ein paar praktische Hinweise: Die Lampe ist kompatibel mit den Standard-SEM-I/O-Schnittstellen sowie den üblichen Lithografieprozessen. Dennoch muss man bei der Integration darauf achten – die thermische Masse der Anlage sowie der Abluftweg sind wichtig.
Planen Sie einen kurzen Einrichtungsvorgang, um das thermische Profil an Ihre spezifischen Bedürfnisse anzupassen. Sobald das Profil eingestellt ist, bleibt der Prozess unter Kontrolle – und die Produktion kann weiterlaufen.